关键的半导体制造过程不断要求精确的气体流量控制设备,以实现未来的创新,以及领先的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号,以支持客户的挑战。
工具上气体和全尺寸配置更改 *仅 EtherCAT
为流程优化提供灵活性
100 ms 响应速度和mfc到mfc的偏差控制
提供高生产力和更大的过程性能
小流量 MRMG 功能(Bin101 - Bin105)
为需要小流量的工艺提供灵活性
PFA 喷嘴具有更好的阀门关闭和耐腐蚀性能
稳定性性和较小的颗粒风险,减少停机时间和优化产量
状态监控功能
为更智能的故障预测提供更多的内部数据
状态监控功能的输出项
流量/压力调零计数
阀门驱动计数
记录最大/最小P0,P1,P2压力
最大/最小块温度记录
总时间超过/低于压力规格
总时间超过/低于温度规格
总工作时间
总控制时间
总流动时间(每个校准实例)
总流量(每个校准实例)