有效保持恒定的研磨液稀释度。保持适当的电导率值有助于保持晶圆抛光制程中的工艺稳定性。即使是高粘度样品液体(如 CMP 研磨液)也可以正常测量,因为其使用的传感器结构降低了样品液体附着在电极上的风险。同时,传感器由具有良好耐化学性的接液材料制成,符合半导体制程的清洁度要求。此外,它还可以用于半导体制程开发阶段的引入和特殊化学药液的电导率控制。
高精度/高稳定性
测量范围:0 至 2,000 μS/cm, 0 至 10,000 μS/cm
重复性:± 0.5% F.S.,± 1.0% F.S.
无金属污染
由于电极材料采用特殊碳制成,因此无需担心金属洗脱污染问题。
配备浓度换算功能
通过输入化学药液浓度和电导率之间的关系以及温度特性,可实现两种不同类型的浓度换算。
特别适用于低浓度化学品的稀释控制。
节省空间
通过缩小传统电导率传感器的尺寸,提高了安装布局的自由度。