光学光谱仪 GD-Profiler 2™

工艺流程辉光放电

概要 GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。 配有RF光源，可以在脉冲模式下检测易碎的样品，GD-Profiler 2™的应用范围从对腐蚀的研究到PVD涂层的工艺控制，在大学被广泛用于常规的金属和合金产品的研究。 特征 RF射频发生器- 标准配置，符合E级标准，稳定性高，溅射束斑极为平坦，等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。 脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜，也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。 多道(同时)型光学系统可全谱覆盖，光谱范围：110nm至800nm，包含远紫外，可分析C, H, O, N, Cl HORIBA Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有最大光通量，因而有最高的光效率和灵敏度 专利HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测，动态范围达到10个量级 宽大的样品室方便各类样品的加载 功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测报告 激光指点器(CenterLite laser pointer，专利申请中)可用于精确加载样