聚焦离子束探针 MI4050

MI4050 高性能聚焦离子束系统配备了新型光学器件，具有世界领先的 SIM 成像分辨率和高清晰度 TEM 样品制备功能，并在低 kV 下提高了成像分辨率。MI4050 可用于多种应用，如截面观察、电路修改、矢量扫描处理、纳米微图案化、纳米成型以及使用沉积功能进行三维纳米制造。 利用大探针电流（最大探针电流 90 nA）大大缩短处理时间 线键合横截面加工（加工尺寸：宽：95 µm，长：55 µm；加工时间：20 分钟） 通过低 kV 处理（0.5 kV 或更高）进行超低损伤 TEM 样品制备，并在低 kV 下提高二次电子图像分辨率 *可选择低于 1 千伏 高精度 5 轴电动机械偏心平台 偏心平台使用户能够更精确地指定坐标，从而在成像和连续处理 TEM 样品制备时获得更精细的对准。