日立 NE4000 nanoEBAC 是一种基于电子束的探测系统,用于微电子器件互连、材料和元件的电特性分析、EBAC 分析和成像。
电子束吸收电流(EBAC)技术提供了一种快速有效的方法,无需直接探测低层,即可识别互连器件上的开路、高电阻和短路。
EBAC 技术通过电子束穿过电介质层到达低层金属化层,以吸收电子束电流。FESEM 的电子束加速电压可控制穿过介电层的探测深度或穿透水平。在暴露的上层金属化层上放置一个探针,以完成电路并让电子流过互连层。
通过使用双探针和日立专利的差分 EBAC 放大器,可以观察塞贝克效应导致的高电阻和短路。
用户友好型设计
- 直观的 GUI(图形用户界面),具有各种图像和颜色处理功能。
- 通过集成的腔内 CCD 摄像系统实现探头的粗略定位。
优质图像质量
- 通过日立获得专利的高性能 EBAC 放大器提供高质量的 EBAC 图像。
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