质谱仪离子源 IG20

用于超高真空表面分析的5keV氩或氧离子源 IG20具有高亮度的电子冲击气体离子源，专门为氧气能力而设计，但也适用于惰性气体和其他气体。 薄膜光学涂层 电子材料 核材料 IG20被设计为SIMS、Auger和XPS应用于成像和深度剖析的主要离子束，然而，内部产生的光栅扫描和广泛的操作参数使其适用于样品清洁和表面科学实验。两个用户可切换的灯丝确保了在灯丝爆裂的情况下继续工作--可以在用户方便的时候更换。 强烈的离子束，光斑大小为100微米，能量为0.5 - 5 keV 高电流密度，高达4.5 mA/cm2 具有氩气和氧气能力的电子冲击离子源 用于深度剖析中的线散射和光束光栅的转向光学装置 离子枪柱中的3°偏移，以实现对中性物质的最佳排斥 光束消隐设施，用于在光栅应用中快速切换光束 源头差分泵送，减少腔体气体负荷 易于更换的双灯丝组件 扫描速率低至64微秒 与SIM和EQS探头集成操作，直接控制光栅速率/面积