用于MBE沉积应用中的多源监控系统
分子束源需要精确控制,以实现可重复的生产质量的薄膜生长。海顿的XBS(交叉束源)系统提供了对多个源的原位监测,并有实时信号输出,以实现对沉积的精确控制。海顿的XBS是用于分子束质谱分析的一个很好的工具。
MBE监测和控制
分子束研究
多束源分析
高性能的RGA
解吸作用
脱气研究
烘烤循环
工艺气体污染物
海登XBS RC系统是一个四级杆质谱仪,设计用于同时监测多个光束源,并独特地提供了通过70°锥体的光束接受,横跨四级杆轴。
光束接受孔为每个特定的加工室源位置单独配置,制造成可替换的插件,以便在加工室改变的情况下进行追溯修改。
XBS系统的高灵敏度和快速数据采集为控制每秒0.01埃的生长速度提供了信号。
高灵敏度,增强了从100%到5ppb的检测能力,质量范围达到510 amu
增强的长期稳定性(24小时内高度变化小于±0.5%)。
横梁式离子源,横轴上的光束接受度为+/- 35°。
用于软电离和外观电位质谱的离子源控制
高质量传输的增强灵敏度,自动质量标尺校准
2毫米的光束接受孔径 - 根据用户的具体应用进行配置
通过纯射频预过滤阶段增强抗污染能力
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