质谱仪离子源 HAL 201 RC

为高要求的超高压应用而配置的残余气体分析仪 Hiden RGA for UHV是为要求严格的UHV应用中的残余气体分析而设计和配置的，在UHV下需要进行关键的测量。 残余气体分析 泄漏检测 解吸 放气研究 烘烤循环 泵的性能 工艺气体污染物 HAL 201 RC分析仪包括所有离子源类型的镀金版本，作为标准配置。提供镀金离子源是为了最大限度地减少源放气，适合于总压力< 5 x 10-10 mbar的应用。 EPICS是世界上许多光源使用的标准仪器控制软件，海登HAL系统与EPICS软件驱动程序完全兼容。 镀金的离子源，最大限度地减少源放气 电子冲击电离器带有双氧化层的铱金灯丝 双法拉第/通道创电子多普勒检测器 最小可检测的部分压力为5 x 10-14 mbar 最大工作压力为1 x 10-4 mbar