质谱仪离子源

一系列用于残余气体分析的离子源选项 海顿生产了多种离子源类型，可以安装在我们全系列的RGA中。离子源类型对RGA的性能至关重要，能够指定您所需要的离子源，可以确保我们的RGA为特定的应用进行定制配置。 热分析TA/MS 催化研究 反应动力学 燃料电池 cvd/mocvd/alcvd 环境监测 标准RGA 一般应用的径向对称配置 UHV Low Profile 为UHV TPD研究而优化，使离子源更接近进化表面 封闭源 用于高压研究，直接输入气体，与分析器的差分泵阶段一起使用 XBS交叉束 专门为MBE沉积率监测和控制而配置 基本交叉光束 用于分析分子束，其中光束可能会在电离器表面凝结。该源的特点是通过源的电离区有一条无障碍通道。可提供外部护罩，以保护四极质量过滤器免受凝结物的影响。 激光交叉束源 包括两个正交的无障碍通道，用于源笼区域内的激光质子电离，提供了电子撞击和电子附着电离的替代方案。 4个透镜离子光学系统与集成电离器 此外，还可以分析分析仪外部产生的低能量正离子和负离子。用于电子、光子和激光激发的解吸研究