次级离子化质谱光谱仪 SIMS Workstation

用于分析移动式高敏感度

用于薄膜深度剖析的超高压表面分析系统 海登分析公司为高性能的动态和静态SIMS（二次离子质谱）分析提供了极为通用的高灵敏度仪器，在尖端应用中开启了新的精确水平。SIMS工作站具有扩展的范围，能够获取和识别正(+ve)和负(-ve)二次离子，是成分分析和深度剖析应用的全面解决方案。 对于同时进行+ve和-ve离子分析的综合SIMS软件包，海顿分析公司还开发了创新的Hi5 SIMS工作站。在我们下面的产品资料中可以找到更多信息。 二次离子质谱，或称SIMS，是有史以来开发的最敏感的技术之一，用于询问材料的最上层，从几百纳米（nm）到一个原子层的深度。它可以获得低至十亿分之一（ppb）范围的成分数据，并且与任何可以在真空条件下可靠测试的材料兼容。因此，SIMS仪器经常被用来分析陶瓷、金属、有机材料、聚合物、半导体等等。 这种技术被分解成两种不同的方法：动态和静态SIMS。这两种方法中的每一种都使用一次离子束，在真空条件下撞击样品，导致极小体积的材料从表面消融--这种喷射出的材料的一部分将被电离。