X射线荧光光谱仪 FISCHERSCOPE® XDV®-µ

自动测量高精度

• 功能強大的高級型號，用於最小結構和小於 0.1 µm 的最薄鍍層進行精確鍍層厚度測量和材質分析 • 具有鎢陽極的 Ultra 微聚焦管，可在 µ-XRF 的最小光斑點上實現更高性能; 鉬陽極可選。 • 4 個可切換的濾波器 • 極其強大的矽漂移探測器，面積為 20 mm² 或 50 mm²，用於薄膜的最高精度檢測 • 內部研發的多毛細管光學元件，用於最小測量點低至 10 μm FWHM，測量時間短，強度高 • 數位脈衝處理器 DPP+ 可提高計數率、縮短測量時間或提高測量結果的再現性 • 分析從 Al(13) 到 U(92) 的元素，支援氦氣吹掃，同時測量多達 24 種元素 • 高精度、可程式 XY 檯面，定位精度 小於 5 µm，可實現最準確的樣品定位和自動圖形辨識，以獲得最佳的重複精度 典型應用領域 • 測量非常小的扁平元件和結構，例如印刷電路板、觸點或引線框架 • 測量電子和半導體行業的功能鍍層 • 分析非常薄的塗層，例如 ≤ 0.1 µm 的金/鈀塗層 • 複雜的多層系統測定 • 自動測量，例如。應用在品質控制 • 輕元素的測量，例如。測定金和鈀下的磷含量（以 ENIG/ENEPIG ）