光学测量系统 C12562-04

厚度通用量规用于薄膜

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C12562 是一款紧凑、节省空间的非接触式薄膜膜厚测量系统，可根据需要轻松安装在设备中。在半导体行业，因为硅穿孔技术的流行，硅厚度的测量至关重要；在薄膜生产行业，粘合层薄膜越来越薄，以满足产品规格。因此，这些行业现在需要更高的厚度测量精度，测量范围从 1 μm 到 300 μm。C12562 允许在 500 nm 至 300 μm 的宽厚度范围内进行精确测量，包括薄膜涂层和薄膜基板厚度以及总厚度。C12562 还提供高达 100 Hz 的快速测量，是高速生产线测量的理想选择。 特点 • 可测量从薄膜厚度到总厚度的整个范围 • 缩短周期时间（最高 100 Hz） • 增强型外部触发器（适用于高速测量） • 软件中添加了简化的测量 • 能够同时进行表面分析 • 精确测量起伏不定的薄膜 • 分析光学常数（n、k） • 提供外部控制 详细参数 • 型号 : C12562-04 • 可测量的薄膜厚度范围（玻璃） : 500 nm 至 300 μm*1 • 测量重现性（玻璃） : 0.02 nm*2 *3 • 测量精度（玻璃） : ±0.4%*3 *4 • 光源 : 卤素光源 • 光斑尺寸 : 约 φ1 mm*3 • 工作距离 : 10 mm*3 • 可测量层数 : 最多 10 层 • 分析 : FFT 分析、拟合分析、光学常数分析 • 测量时间 : 3 ms/point*5 • 光纤连接器形状 : FC • 外部控制功能 : RS-232C，以太网 • 电源 : AC100 V 至 AC240 V，50 Hz/60 Hz • 功耗 : 约 80 VA