半导体工业氮气发生器

用于高纯度应用

氮气发生器如何用于半导体和硅片制造？ 氮气在半导体和硅片制造中最主要的四种用途是吹扫、冲洗、沉积和恒定进料。 令人惊讶的是，在半导体制造过程中，氮气作为实际工艺气体的使用并不多。然而，氮气被认为是必不可少的气体。这是就氮气的用量、不同应用的数量以及每年的购买费用而言的。这是因为氮气主要用作清洗气体。半导体制造商使用大量氮气来净化工艺室、真空系统、废料处理系统和管道。氮气发生器是制造半导体和硅晶片所需的所有气体应用的理想解决方案。与交付的氮气相比，我们的氮气发生器能以较低的成本生产大量高纯度气体。 对于希望降低运营成本且不使用地下管道的公司来说，氮气发生器是理想的替代方案。高纯氮气发生器的平均投资回收期为 12 至 14 个月。这些系统的典型使用寿命为 15 至 20 年。