半导体树脂 i-Line

光敏

广泛的中uv敏感光刻胶系列，用于关键和非关键的应用，包括在各种基底上的0.30µm以下到>1.0µm的分辨率，抗蚀剂厚度范围大。 产品摘要 - 用于非反射性基材的高级i-Line抗蚀剂 为苛刻的关键CD（500纳米CD）和强大的图案设计的电阻系列。 - OiR 305系列 - OiR 366系列 - OiR 906系列 - OiR 907系列 - 多用途交叉g-和i-line电阻 为g-line、i-line和宽带（>800nm CD）提供强大图案的电阻系列。 - HiPR 6500系列 - HPR 510系列 - 用于高反射基材的染色抗蚀剂 提供非漂白、高光密度的抗蚀剂系列，用于高反射基材的CD和缺口控制。 - OiR 906MD - OiR 906HD - OiR 305HC - HiPR 6500GH - HiPR 6500HC - 用于更厚应用的i-Line电阻 用于更厚的薄膜图案需求的电阻系列，薄膜厚度从3到13微米不等。 - FHi-560EP - GiR 3114 - OiR 305 - OiR 908