光敏树脂 ArF

用于半导体

正面干燥和浸泡成像的材料，以及负色调显影（NTD）的材料 用于193纳米曝光的各种高分辨率成像系统，包括正片干式和浸泡式成像以及负片显影（NTD）。 - 高通量 - 卓越的分辨率 - 宽广的工艺窗口 - 低缺陷水平 - 垂直剖面 - GAR系列 GAR系列产品适合与需要193纳米干式曝光的各种应用一起工作 - 用于PTD的FAiRS系列 FAiRS系列产品适用于需要193纳米浸泡式曝光和正色调显影的各种应用。 - 用于NTD的FAiRS系列 FAiRS系列产品适用于需要193纳米浸入式曝光和负色调显影的各种应用。