厚度测量系统
光学晶圆用工业用途

厚度测量系统 - Farley Laserlab/法利莱 - 光学 / 晶圆用 / 工业用途
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产品规格型号

物理量
厚度
所用技术
光学
所测量的产品
晶圆用
应用
工业用途, 用于电子元件
其他特性
高精度, 高速, 双轴

产品介绍

面对半导体产业链上游的原材料生产企业,自主研发的光谱共聚焦测量系统用于检测半导体原片和外延片的尺寸和平整度。 产品优势。 应用范围广 用于各种材料和抛光条件的4-8英寸原片、基片和外延片的检测 测量精度高 厚度范围。0-1mm 测量精度:± 1 μ M 重复精度:0.2 μ m 测量时间短 测量时间。30s/PCS(根据客户的检测轨迹)

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。