激光平版印刷系统 EVG®770 NT

逐步重复的纳米压印光刻系统 阶梯式重复纳米压印光刻技术用于高效的母版制造 EVG770 NT是一个多功能的平台，用于步进重复(S&R)纳米压印光刻技术，以实现高效的母版制造或直接在基底上形成复杂结构的图案。这种方法允许从30平方厘米以下的小模具中均匀复制模板。S&R工艺允许在大面积上多次复制这些模具，最高可达2代面板大小的基材。与金刚石车削或直写方法相结合，S&R压印经常被用来有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。因此，它通常是大批量制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、元表面或生物医学设备的重要先决条件。 EVG770 NT的主要特点包括精确对准能力、全过程控制和灵活性，以满足各种结构和材料的工艺要求。 用于晶圆级光学器件的微透镜到用于SmartNIL®的纳米结构的高质量母版制造 高效地扩展到大尺寸的基片，直至面板尺寸 简单实现不同类型的母版 可变的抗蚀剂点涂模式 点胶、压印和脱模时的实时图像 压印和脱模的原位力控制 光学距离控制和实时间隙测量 可选的在线测量 可选的印章缓冲器和自动交换 可选的盒到盒的自动处理 80毫米、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸、Gen2 (370毫米 x 470毫米) < +/- 1 µm < +/- 250 nm