UV-NIL光刻系统 UV/EVG®770

EVG770 是一个多功能平台，用于分步和重复纳米压印光刻，用于高效的主体制造或直接绘制基板上复杂结构。 这种方法允许在最大 300 mm 基板尺寸的大面积上均匀复制 50 mm x 50 mm 的小型模具。 与金刚石车削或直接书写方法相结合，经常使用步进和重复印印刷来高效制造晶圆级光学制造或 EVG SmartNil 工艺所需的大师。 EVG770 的主要特点包括精确校准能力、完整的过程控制以及满足各种设备和应用需求的灵活性。 具有用 于晶圆级光学至纳米结构的微透镜的高效主制造，适用于 SmartNil® 简单实现不同类型的主控 可变阻力点胶模式 在点胶、压印和拆除 原位力控制过程中实时图像，用于压印和拆卸 可选光学楔形误差补偿 可选自动化磁带到磁带处理