UV-NIL光刻系统 IQ Aligner®

IQ Aligner UV-NIL 系统允许使用直径为 150 mm 至 300 mm 的印章和晶圆进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行制造聚合物微透镜。 该系统从晶圆尺寸主印章复制的软工作印章开始，提供混合和单片微透镜成型工艺，可轻松适应各种材料组合，用于工作印章和微透镜材料。 此外，EV 集团还提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关材料专业知识。 EV 集团专有的夹头设计为高产量大面积印刷提供了统一的接触力。 配置包括印迹基板印章的释放机制。 特点 用于光学元件 的微成型应用用于全场纳米 压印应用的三个独 立控制的 z 轴，可在印章和基板之间实现卓越的楔形补偿。压印抵抗 软 UV-NIL 工艺，利用软工作戳 EVG 专有的全自动解压印功能 抵抗点胶站集成 粘合对准和紫外粘接能力 技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 150 至 300 mm 分 辨率 ≤ 50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持的工艺 软 UV-NIL，透镜成型