UV-NIL光刻系统 UV/EVG®620 NT

EVG620 NT 因其灵活性和可靠性而闻名，以最小的占地面积提供最先进的遮罩对准技术。 操作员友好的软件，最大限度地缩短了掩模和工具更换的时间，以及高效的全球服务支持，使其成为任何研发环境直至半自动批量生产的理想解决方案。 该工具支持各种标准光刻工艺，例如真空、软、硬和接近曝光模式以及背面对齐选项。 此外，该系统还为多用途配置提供额外的功能，包括粘合对准和纳米压印光刻。 此外，EVG 专有的 SmartNil 技术支持半自动化和全自动化系统配置。 SmartNil 是行业领先的 NIL 技术，能够对低于 40 nm* 的极小特征进行图案设计，以及广泛的结构尺寸和形状。 SmartNil 与多用途软印章技术相结合，实现了无与伦比的吞吐量以及相当大的拥有成本优势，同时保持了可扩展性和易于维护的操作。 EVG 的 SmartNil 兑现了纳米压印技术的长期承诺，这是一种低成本、大批量的替代光刻技术，用于大规模制造微纳米结构。 * 分辨率取决于流程和模板