自动光刻机 EVG®620NT

晶圆

EVG® 620 NT 提供最先进的掩模对准技术，最小化的占地面积可达 150 mm 的晶圆尺寸。 EVG620 NT 因其多功能性和可靠性而闻名，在最小的占地面积上提供了先进的遮罩对准技术，同时具有先进的对准功能和优化的总拥有成本。 它是半自动或自动配置的光学双侧光刻的理想工具，具有可选的全壳 Gen 2 解决方案，以满足大批量生产要求和工厂标准。 操作员友好的软件，最大限度地缩短了掩模和工具更换的时间，以及高效的全球服务和支持，使其成为任何制造环境的理想解决方案。 EVG620 NT 或完全安装的 EVG620 NT Gen2 掩模对准系统配备了集成的隔振功能，可在各种应用中获得出色的曝光效果，例如薄厚阻力曝光、深空腔和类似拓扑设计以及加工薄和易碎材料，如化合物半导体。 此外，EVG 专有的 SmartNil 技术支持半自动化和全自动化系统配置。 具有 从碎片到 150 mm/6' 的晶片尺寸的 系统设计，支持光刻工艺的多功能性 易碎、薄或扭曲晶片处理多种尺寸的晶片，快速更换时间快速 自动无接触楔形补偿序列带接近间隔器 自动原点函数，用于精确定中对齐键 动态对齐功能，具有实时偏移校正功能