线性位移台 METIS
机动双轴气浮

线性位移台 - METIS - ETEL S.A. - 机动 / 双轴 / 气浮
线性位移台 - METIS - ETEL S.A. - 机动 / 双轴 / 气浮
线性位移台 - METIS - ETEL S.A. - 机动 / 双轴 / 气浮 - 图像 - 2
线性位移台 - METIS - ETEL S.A. - 机动 / 双轴 / 气浮 - 图像 - 3
线性位移台 - METIS - ETEL S.A. - 机动 / 双轴 / 气浮 - 图像 - 4
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产品规格型号

方向定位
线性
类型
机动
轴数量
双轴
其他特性
高精度, 气浮
运行行程

最多: 321 mm
(12.638 in)

最少: 12 mm
(0.472 in)

速度

0.02 m/s, 0.1 m/s, 1.2 m/s
(0.07 ft/s, 0.33 ft/s, 3.94 ft/s)

重复精度

0.25 µm, 0.3 µm, 0.4 µm

载荷

625 kg
(1,377.89 lb)

产品介绍

METIS 是最先进的混合平面机械/空气轴承平台,专为步进和扫描应用而设计,可确保无与伦比的精度、移动和稳定时间以及 4 自由度的速度稳定性。 METIS 平台是最先进的混合平面机械/空气轴承平台,专用于 X、Y、Z 和 Theta 方向四轴移动的步进和扫描应用。全行程范围内的动态平面度和双向重复性使其成为高精度任务的理想选择。METIS 广泛应用于晶圆过程控制,如关键尺寸和薄膜计量、晶圆划线和晶圆激光热退火。它还适用于后端光刻机(光罩校准器)和某些晶片切割应用。 METIS 性能可靠,是先进半导体和光电子应用的必备工具。 特点 METIS 结合了机械和空气轴承技术,具有极高的精度和灵活性。 METIS 可在 X、Y、Z 和 Theta 轴上移动,是步进和扫描应用的理想选择。 该平台在整个行程范围内具有高动态平面度和高双向重复性。 METIS 可用于晶圆制程控制、晶圆划线和激光热退火。 该平台可为先进的半导体和光电子应用提供可靠的性能。 METIS 还适用于后端光刻机和晶片切割应用。 以下是我们机型的主要特点: 运动平面度 通过空气轴承技术在整个行程范围内保持平整。

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* 显示价格为参考价,此价格不含税、不含运费、不含关税,也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。