...narcap® LPX 一次性过滤器
用于氧化物和铜 CMP 的二氧化硅和氧化铝磨料的使用点一次性过滤器
专为二氧化硅和氧化铝浆料溶液而设计 - 通常用于铜、ILD、STI 和钨 CMP 应用中
提供从 1 微米到 5 微米的各种留着率等级
满足使用点 CMP 浆料过滤应用的需要
提供带 Flaretek® 接头的一次性过滤器
全聚丙烯结构,带褶式过滤介质
材料
介质深度褶皱聚丙烯
核心、保持架和外壳聚丙烯
连接:
入口/出口:3/8 英寸或 1/4 英寸 Flaretek® 接头
通气/排水:1/4 英寸 Flaretek® 接头* 最大工作条件:1/4 英寸 Flaretek® 接头
最大工作条件:
最大工作压力: 0.27 兆帕(2.7 巴,40 PSI),25°C 时
最大正向/反向压差: 0.27 兆帕(2.7 巴,40 PSID),20°C 时
最高工作温度:40°C (104°F)
备注:
*零件号 SKNP 010L2F 可提供 1/8" MNPT 排放口/排水口
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