TubeStar 炉平台是一种紧凑型间歇式管式炉。该平台专用于扩散、氧化和沉积应用,其设计旨在满足工艺工程的需要。TubeStar 系列产品具有模块化和灵活性的特点。事实上,它可以由 1 到 4 个独立的管子组成,每个管子可容纳 50 个晶片。
优势和优点
TubeStar 炉平台在处理小批量晶片方面表现出色,但由于其灵活性,也非常适合处理大批量晶片。在光伏制造生产线等工艺变更的鉴定过程中,它们的效率已得到证明。
这种管式炉的主要特点之一是精密热处理与高度的调整灵活性相结合。因此应用范围非常广泛。
可能的应用
扩散
LPCVD
氧化
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