等离子表面处理机 Femto

实验室自动真空

迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Femto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为2至3升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 台式或落地式的外壳 真空室：不锈钢、铝、硼硅酸盐或石英玻璃 箱体容积：2-3升 气体供应：针阀或质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：40 kHz / 0 - 100 W; 100 kHz / 0 - 500 W; 13.56 MHz / 0 - 200 W; 2.45 GHz / 0 - 300 W 控制装置：半自动，旋转开关，基本PC控制（Windows CE），完全PC控制（Windows 10 IoT）。 压力测量：皮拉尼，容量式压力计 Femto等离子体系统主要应用于以下领域： 分析、考古、汽车、研发部门、半导体技术、小批量生产、塑料技术、医疗技术、微系统技术、传感器技术、消毒、纺织技术