磁电管溅镀机 Discovery 635

经过生产验证的Discovery平台可以处理高达300毫米的基材。集束配置使它适合于多层、对氧敏感的应用和高产量的要求。该平台可容纳直流、脉冲直流和射频溅射，其特点是单阴极配置的高均匀性，以及共聚焦共溅射能力。Denton专有的PEM技术可以实现金属氧化物和氮化物的高速反应性溅射。 也可以使用离子辅助沉积。通过独立的电-气动源快门和烟囱组件，您可以防止源材料的交叉污染。多种泵的配置，包括低温和涡轮，以及泵的位置选择，提供了我们需要的设计灵活性，以满足您的工艺和生产力要求。 大批量的生产 先进的光学过滤器 医疗植入物的生物相容性涂层 薄膜电阻器和传感器 晶片金属和电介质薄膜 大面积混合电路的制造 复合半导体的金属触点 研究与开发 Discovery磁控溅射系统在满足大批量生产需求的同时提供了多功能性和可靠性。这个薄膜沉积系统既可以容纳单阴极高均匀性配置，用于大批量生产，也可以容纳多达4个共焦阴极，通过三轴调整偏移量、靶材到基片的距离和角度，实现均匀镀膜。每个阴极都可以针对不同的沉积方法或目标材料进行优化。