Infinity PSIBE和Infinity LL刻蚀系统可以提供高性能的刻蚀,关键的薄膜轮廓铣削,闪电角铣削等。Denton Vacuum的专家将与您合作,确保您的配置得到优化,以满足您的确切需求和规格,您的系统将得到我们技术团队的全面支持。
通过端点控制提高半导体工艺产量
化合物半导体金蚀刻
工艺控制和芯片设计评估
图案化蚀刻
晶片加工服务
灵活多变的PSIBE批量系统占地面积小,非常适合紧张的生产车间。它是为低到中等产量的应用而设计的,是MEMS、半导体和数据存储市场以及光学、透镜、试生产和代工支持的完美解决方案。
Denton的真空LL(负载锁定)蚀刻系统是一个灵活的解决方案,旨在支持高产能加工,用于半导体、数据存储、MEMS和晶圆加工市场的试生产和代工支持等高要求、大批量的应用。
这两个系统都与1000级洁净室兼容(宴会厅风格),符合ESD标准,并可提供蚀刻的化学辅助。LL蚀刻可以配置为单芯片或多芯片,而PSIBE系统PSIBE可以通过单晶圆装载锁实现成本效益的手动样品转移。
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