Infinity FA系统是一个具有成本效益的解决方案,用于蚀刻和剖析高产量的设备,以较低的成本提供快速的结果。它提供了优秀的延迟均匀性和大面积的最小损伤。完全集成的SIMS软件包提供了为进一步分析而定位小缺陷所需的精度。通过使用多种蚀刻技术,单层不同成分的蚀刻率可以匹配,使整个层的蚀刻率统一,而不管化学成分如何。
在Denton的合作承诺的支持下,Infinity FA工具提供了高质量的性能和高系统正常运行时间。我们的全球服务团队将为您提供值得信赖的预防性维护计划和反应迅速的支持,以确保最佳的生产力和生产效果。
半导体故障分析
延迟处理
产量提高
逆向工程
微显示器故障分析
Infinity FA系统是一种高性能的蚀刻工具,设计用于半导体制造中的故障分析样品制备、关键薄膜剖析和延时加工。离子束蚀刻(IBE)、反应离子束蚀刻(RIBE)和化学辅助离子束蚀刻(CAIBE)被用来为多材料层提供均匀的蚀刻率。
该系统包括一个强大的SIMS软件包,用于分析薄膜去除。它符合ESD标准,完全由计算机控制,具有很高的自动化和可重复性。二次离子质谱仪(SIMS)能够实现精确的端点控制,使半导体晶圆脱膜并识别缺陷,以提高工艺产量。
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