质谱光谱仪 IMS Wf & SC Ultra

离子流动性工艺流程半导体工业

用于半导体晶圆厂中成分测量的全自动 SIMS AKONIS SIMS 工具通过直接在半导体生产线中提供对注入分布、成分分析和界面数据的高产量、高精度检测，填补了半导体制造工艺中的重要空白。AKONIS 有非常高的自动化水平，确保了各种工具在晶圆厂工艺控制和工具之间匹配方面的可重复性。除传统的通过表征实验室为半导体行业提供支持的IMS Wf/SC Ultra和 SIMS 4550（四极杆 SIMS）系列外，AKONIS作为其 补充，可实现仪器设置和采集例程的完全自动化，从而可在分析灵敏度不受影响的情况下实现快速的厂内分析。AKONIS 受益于极低冲击能量（EXLIE）离子色谱柱技术（< 150 eV）的最新发展，与带高分辨率平台的整片晶圆处理系统相结合，可在最小 20 μm 的压焊点上进行测量。 推动实现 N5 及后继制程的高产量 SiGe 和 SiP 多层堆叠的高分辨率成分和快速掺杂物深度剖析 无与伦比的最小 20 μm 在压焊点上的检测限 将数据反馈到生产线的时间缩短了 97% 以上 光片和图案化的整片晶圆测量 图案识别引擎与高分辨率干涉测量平台相结合，可实现 < 2 μm 的位置精度 基于独特材料数据库的直观recipe创建 SEMI 认证（S2/S8、E4、E5、E39、E84...） 低购置成本