高品质的光束以及高脉冲峰值功率
激光打标机的打标效果及品质主要取决于激光光束的输出功率及聚焦位置。
cab 激光打标机 XENO 4 是半导体泵浦及气冷式。本设备提供高品质的光束以及高脉冲峰值功率。激光光束源提供 20、30 及 50 瓦的输出功率。
搭配不同型号的平场聚焦透镜,激光打标机 XENO 4 可涵盖的打标区域为 69 x 69 mm 至 290 x 290 mm。
激光打标机 XENO 4 可对塑料、金属以及上漆的表面进行打标作业。
激光打标机 XENO 4 由两个元件组成:激光光束源控制装置及振镜头。振镜头透过光纤与激光光束源连结,可安装于任何一处位置。
内建的对焦器便于工件的定位。
cab 激光打标机 XENO 4 的特色为
•轻巧的振镜头设计
•打标作业迅速
•内建对焦器
•可快速调整打标平台
•焦点偏移的高度差最大可至 140 mm
•对应工业 4.0
•透过 TCP/IP 进行操作及监控
激光光束源控制装置安装于 19 吋的机壳内部。
借由对焦位置的调整,XENO 4S 可轻易地在零组件上瞬间补正高度差异。
借由机械单位的调整,零组件上位于不同平面的复杂打标内容也能够在不影响周期时间的情况下完成。
控制装置按照各自的比例换算成工件上的布局。对焦位置的调整依据使用的平场聚焦透镜可至 ±70 mm。