PVD镀膜机 NESSY series

磁控溅射薄膜真空

NESY 系列是比勒 · 莱博德光学公司最新一代磁控溅射系统。 它专门用于在超高真空（UHV）条件下生产极端紫外线（EUV）反射镜的涂层，专为量产和新产品的开发而设计。 NASY 涂层机最多可配备六个不同的矩形溅射阴极，并且可以使用钼和硅，以及实现完整镜面涂层所必需的其他材料。 因此，可以在一个周期内执行完整的涂层堆栈。 适用于未来的 钼硅多层反射镜的涂层器具有突破性的应用，波长为 13.5 nm 的最大反射率，已成为反射技术的经典之作。 这些镜子作为冷凝器或投影仪镜子在下一代光刻设备中不可或缺。 除了 EUV 光刻技术外，多层干涉镜还可用于 X 射线测量设备、同步辐射光学和其他复杂的科学应用。 复杂基材种类繁多，使 NSY 成为开发新型应用和组件的理想选择。