PVD镀膜机 HELIOS series

磁控溅射薄膜用于光电技术

Bühler Leybold光学的HELIOS系列是灵活的快速，精确和充分地自动化的薄膜涂层的平台。 它为以老练过滤器设计为特色的优质光学涂层设计和特别是被设计将达到与高出产量和高生产量。 极端密集，光滑，化学计量学和无定形的层数保证空前的光学表现。 原地在基体测量的光学监控系统促进在层数厚度控制的最后精确度。 卓著的生产力和层数质量 飞溅由等离子协助的易反应的磁控管科技目前进步水平技术(PARMS)允许电介质涂层的证言从金属目标的，协助由与一个高沉积率的一个射频(RF)等离子来源导致与高精度在原子标度和高出产量的最高级的产品的高生产力的。 在每自转时，选择的双重磁控管放置稀薄的次级化学计量学的氧化物层数并且转移到非吸收的氧化物层数，当通过RF来源的氧气等离子时。 这个方法保证最低的损失和完善的化学计量学结果-，既使当飞溅从金属目标。 光学监视促进高生产稳定 直接在基体原地光学监视在一个断断续续的方式执行使用一块测试玻璃一致在转动的转盘之内的基体位置。 这导致极端涂层的高生产稳定和反复性。 快速的转动的转盘允许非常一些毫微米薄层的生产和高精确度。