抛光精研机 I4-LAP 700

CNC数控精准

Submikron 的真正 "技术之光"--新一代单面研磨机 II4 LAP 系列。该机器不仅设计新颖，而且还提供了新的可能性，例如在精磨、研磨和抛光领域实施工业 4.0 规范。与高效的 LPS（研磨板轮廓分析系统）研磨板调节系统和 CP8 Allrounder 研磨抛光一体机一起，Submikron 为研磨工艺提供了一套全面可靠的系统。 创新 创新的机器设计 II4.0 将机器集成到生产和过程控制系统中 配备 9 英寸 TFT 宽屏显示屏的西门子 S7 控制系统 通过总线系统控制组件 记录和控制所有重要的工艺参数，如速度、压力、温度和去毛刺量等 金刚石悬浮液和传统研磨介质的集成配料系统 研磨介质和废料槽装在两个可移动的滚动容器上，便于搬运 中央工件装卸站 远程维护 使用 LPS（研磨板轮廓系统）时的选项 研磨板平面度的控制和可视化 在机器上通过修整对研磨板进行修正 在机器上对研磨板进行螺旋开槽 I4 LAP 的集成配料系统 配料介质数量：一种配料介质 混合：碾磨介质泵配有速度控制装置和油箱，承担搅拌和输送碾磨介质的功能。为了防止研磨油中的研磨剂分离，速度控制是必要的。