阴极薄层电沉积溅射靶材

钨

我们采用热压、热等静压 (HIP)、冷等静压 (CIP)、感应真空熔炼和真空浇铸等各种专业加工技术，生产出符合最严格应用标准的均匀、细粒度、高密度材料。 所有溅射靶材均经过清洁、检查、化学测试，并在惰性气体环境下包装，可立即用于您的真空系统。 Angstrom Sciences 提供全系列溅射靶材，包括：贵金属、纯金属、合金、陶瓷、金属陶瓷、硼化物、氧化物、碳化物、氮化物、硅化物和氟化物。 纯度范围从商业级（99.5%）到超高纯（99.9999%）。