脉冲磁电管 HiPIMS

高功率脉冲磁控溅射或 HiPIMS 是脉冲溅射技术的最新进展，它利用能量极高、持续时间极短的脉冲产生等离子体放电，使大部分溅射原子电离。电离后的通量可以被引导，从而增强对涂层特性的控制。 Angstrom Sciences 已经开发出一系列溅射阴极，能够承受超过 1500 瓦特/平方英寸的极端功率密度，适用于连续长时间的生产应用。Angstrom Sciences 的高脉冲功率脉冲磁控溅射阴极在阳极体和安装法兰中加入了额外的冷却通道，与我们获得专利的湍流目标冷却一起，在工艺操作过程中保持最佳的冷却效果。 其他特点包括被动和主动磁体阵列，可在靶材寿命期间保持靶材表面的场强一致，这对 HIPIMS 工艺中减少电弧和优化溅射材料电离至关重要。 这些特点以及固体阳极结构使其在要求苛刻的应用中（如 HiPIMS 或任何大功率长时间运行的应用）具有一致的可重复性能。 HiPIMS 磁控管直接冷却，有圆形、线形和圆柱形设计。