氧气分析仪 TM2000

气体工艺流程浓度

痕量氧分析仪可对过程变化做出快速反应，为各种工业应用提供卓越保护。 TM2000 采用模块化设计，易于升级和现场服务，从大气到低百万分之 (ppm) 的响应只需几秒钟，测量范围从 0.1 ppm 到 100% O2。 TM2000 采用业界公认的氧化锆，可准确响应从低 ppm 到高氧气水平的变化，并能在氧气读数极低 ppm 的情况下检测到过量可燃物的工艺中断。 TM2000 可为各种工艺提供卓越的保护，是工业气体应用的理想之选，包括惰性气体纯度、常压炉控制、低温气体生成工艺、特种焊接和空气分离。 快速、安全、可靠的测量 氧化锆可快速响应关键应用，并通过高失效（而不是零 O2 读数）提供过程保护。用户可通过使用百分比气体来节省校准气体的费用，即使是低ppm 的测量也是如此。 不稳定状态检测 TM2000 能够在氧气ppm 值极低的情况下检测过量可燃物工艺中断，这一点在低温气体生成工艺中尤为重要。这使得 TM2000 能够区分 O2 干扰条件和过量可燃物干扰条件。 易于使用和维护 分析仪采用模块化设计，使升级和现场维修变得简单。用户友好的菜单驱动软件使操作员能够快速开始使用 TM2000，而高级诊断和在线帮助则进一步简化了使用。