Ascent® AP 电源以 AE® 卓越的双极脉冲直流技术为基础,通过先进的脉冲整形以及包括全电压反转和自调整电弧参数在内的四块渐进式电弧管理,扩展了您优化输出的能力。这种紧凑型解决方案的专利脉冲技术可主动抑制电弧,而其宽泛的工作范围可释放材料选项,从而扩展单磁控管和双磁控管工艺的灵活性和材料创新。
- 利用广泛的功率传输参数实现工艺定制
- 通过分级电弧缓解方法实现先进的制程管理
- 紧凑的单机解决方案(最高 30 千瓦)
- Set Point Compensation™ 技术可实现稳定的产量
- 操作范围广,适用于各种制程材料
- 与 Advanced Energy™ 的 PowerInsight 兼容
- 精确溅射电介质和导电薄膜
- 扩展工艺控制、灵活性和创新性
- 高薄膜质量和产量
- 可重复、可定制的薄膜
- 更高的功率水平,减少电弧损伤
- 易于集成和控制
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