CVD镀膜机 ULCoat

通过在放电后向等离子体中注入前驱体，ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。 ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。 ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。 您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。 系列技术特点 – 与ULS OMEGA系列搭配使用 – 薄膜沉积 – 沉积厚度范围从50至1000纳米 – 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%） – 中高处理速度可达200nm.cm²/s – 专为氧化硅(SiOx)的沉积进行优化