QATM台式磨光器

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金相学实验室磨光器
金相学实验室磨光器
QPOL 250 A1-ECO

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 2.3 kVA
直径: 200, 250 mm

Qpol 250 A1-ECO是一款自动单盘磨抛机,工作盘直径为200/250mm,通过4.3英寸的触摸屏进行便捷的操作。 新的工作盘装配系统(整盘设计)使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法,并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向(磨抛头和工作盘)均可调节。磨盘脱水旋转功能(清洁加速)在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟,有助于磨抛介质甩干。 坚实的设备可以结合加液系统Qdoser ECO或Qdoser ...

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QATM
金相学实验室磨光器
金相学实验室磨光器
QPOL 250 A2-ECO

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 2.3 kVA
直径: 250, 200 mm

Qpol 250A2-ECO是一款自动双盘磨抛机,工作盘直径为200/250mm,通过4.3英寸的触摸屏进行便捷的操作。 新的工作盘装配系统(整盘设计)使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法,并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向(磨抛头和工作盘)均可调节。磨盘脱水旋转功能(清洁加速)在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟,有助于磨抛介质甩干。 坚实的设备可以结合加液系统Qdoser ECO或Qdoser ...

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QATM
台式磨光器
台式磨光器
QPOL 300 A1-ECO+

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 2.8 kVA
直径: 250, 300 mm

Qpol 300 A1-ECO+是一款自动单盘磨抛机,工作盘直径为250/300mm,通过4.3英寸的触摸屏进行便捷的操作。 新的工作盘装配系统(整盘设计)使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法,并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向(磨抛头和工作盘)均可调节。磨盘脱水旋转功能(清洁加速)在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟,有助于磨抛介质甩干。 坚实的设备可以结合加液系统Qdoser ECO或Qdoser ...

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QATM
台式磨光器
台式磨光器
QPOL 300 A2-ECO+

转速: 30 rpm - 600 rpm
功率: 3.3 kVA
直径: 250, 300 mm

Qpol 300 A2-ECO+是一款自动双盘磨抛机,工作盘直径为250/300mm,通过4.3英寸的触摸屏进行便捷的操作。 新的工作盘装配系统(整盘设计)使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法,并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向(磨抛头和工作盘)均可调节。磨盘脱水旋转功能(清洁加速)在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟,有助于磨抛介质甩干。 坚实的设备可以结合加液系统Qdoser ECO或Qdoser ...

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金相学实验室磨光器
金相学实验室磨光器
SAPHIR 550

转速: 50 rpm - 600 rpm
功率: 3.2 kVA
直径: 300, 200 mm

Saphir 550(Rubin 520)是新一代的单盘磨抛机,它采用创新 的磨抛头,工作盘直径为200-300 mm。 Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩,为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。 带气动夹持的电动高度设置功能,结合主机的所有其他特征,saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设,并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时,制样过程会自动停止。 优点 • ...

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金相学实验室磨光器
金相学实验室磨光器
SAPHIR 560

转速: 50 rpm - 600 rpm
功率: 5.5 kVA
直径: 200, 300 mm

Saphir 560(Rubin 520)是新一代等径双盘磨抛机,它采用创新 的磨抛头,工作盘直径为200-300 mm。 Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩,为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。 带气动夹持的电动高度设置功能,结合主机的所有其他特征,saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设,并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时,制样过程会自动停止。 优点 • ...

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QPOL VIBRO

功率: 0.3 kVA
直径: 380, 300, 305 mm

Qpol Vibro (Saphir Vibro)振动抛光机为得到无残留变形的试样制备表面而设计。它是进一步材料表征的理想选择,例如:EBSD(背散射电子衍射),AFM(原子力显微镜)分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。 由于极为温和的材料去除,该设备特别适用于软质和韧性材料,如钛铝,纯铜和铜合金,铝合金,钢和镍基合金。 直径Ø= 308mm的大抛光池提供了足够的空间来抛光填充满试样的夹具或大型试样,可同时抛光多达21个镶嵌试样。 抛光池配备有双磁性系统,可以快速固定、移除和清洁底槽或抛光布,无须任何工具或其它的附件。可使用适合磁性系统的直径为300mm或305mm ...

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