Leica/徕卡SEM样本制备系统

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聚合物样本制备系统
聚合物样本制备系统
EM ACE900

玻璃化冷冻结构对环境影响极其敏感,需要对其加以保护以免形成假象。在理想条件下制备用于详细图像评估的样品: • - 在样品周围采取冷屏蔽措施,避免水分子在样品上冻结 • - 在整个过程中精确控制温度 • - 清洁的刀具 – 每次切片均使用干净的刀片,避免污染 • - 及时、迅速的电子束镀膜,捕获详细的表面信息 • - 在受保护的真空状态下转移到其他分析系统

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Leica Microsystems GmbH/徕卡
SEM样本制备系统
SEM样本制备系统
EM VCT500

使用徕卡EM VCT500,你可以在冷冻或常温,真空或保护气体条件下传输样品。 徕卡 EM VCT500 始终连接 • - 连接您的工作流程系统 • - 凭借主动样品冷却和全新的阀门概念优化您的样品传输 • - 对接后在工作流程中随时监控样品的温度和真空度

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自动样本制备系统
自动样本制备系统
EM TXP

徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能,是用锯,磨,铣削,抛光样品后,供扫描电镜,透射电镜,和LM技术检测。 带有一体化体视镜,用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察;使用样品旋转手柄,可以改变样品观察角度,0°-60°可调,或者垂直于样品前表面90°观察,可利用目镜刻度标尺测量距离。

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聚合物样本制备系统
聚合物样本制备系统
EM TIC 3X

新版 EM TIC 3X 恪守我们的格言:与用户合作,使用户受益”,以注重实用性的方式将性能和灵活性理想融合。 最新的 EM TIC 3X 切割速度翻倍,根据您的应用需求提供五种不同的载物台供您选择,实用性得到进一步提升。

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SEM样本制备系统
SEM样本制备系统
EM TRIM2

Leica EM TRIM2 是一套高速研磨修块系统,一体化体视镜和LED环型照明,为生物和工业样品进行修块。 Leica EM TRIM2 铣刀研磨步进为1μm,可垂直观察,方便精细修块时的定位,并带有吸尘装置,防止粉尘污染。

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自动样本制备系统
自动样本制备系统
UC Enuity Ultramicrotome

... 序列断层成像解决方案) 通过扫描电镜 (SEM) 自动创建并收集数以百计完全适用于序列断层成像的连续切片带。节省生物样品制备SEM 设置环节的时间和精力,因此您可快速获得图像来解答关键的研究问题。 • - 预设 ARTOS 3D,使其自动制作出上百个切面尺寸灵活 (微米到毫米) 的超薄切片带 • - ARTOS 3D 可完整采集完全对准的切片带,避免耗时难处理的手动采集 • ...

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薄膜制造样本制备系统
薄膜制造样本制备系统
EM FC7

... Leica EM FC7冷冻超薄切片附件安装到Leica EM UC6或Leica EM UC7超薄切片机上,将其转换成一台冷冻超薄切片机。冷冻切片温度控制范围-15℃ - -185℃,适用于透射电子显微镜、扫描电子显微镜、原子力显微镜和光学显微镜的样品切片制备。 仅需4步,即可获得优质的冷冻超薄切片……请单击“Gallery”

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自动样本制备系统
自动样本制备系统
EM ACE200

SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项,如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。

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薄膜制造样本制备系统
薄膜制造样本制备系统
EM ACE600

您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。 Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。 这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。 适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica ...

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