LAR Process Analysers工艺流程循环式蓄水池

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UV-Vis紫外-可见循环式蓄水池
UV-Vis紫外-可见循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 虽然所交换的热量不足以对快速流动的样品产生重大影响,但可用于保持预处理样品的温度。 当不适合使用直接插入式探头,并且工艺材料不需要高安全流动池的额外保证时,我们的多用途流动池 (MPFC) 就会派上用场。近红外过程光谱的主要优势之一是利用本质安全型光纤电缆来远程定位探头。 卓越的光传输和光学性能 GUIDED WAVE 多用途加热流动池具有卓越的光学性能。通常,峰值传输率超过 50%。这意味着更多的信号、更低的测量噪声和更低的检测限。 耐工艺性流动池主体结构 GUIDED ...

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工艺流程循环式蓄水池
工艺流程循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... ,尤其难以实现稳定的性能。我们的 GUIDED WAVE™ 轴向工艺流程流动池的路径长度从 30 毫米到 100 毫米不等,对环境的抗扰性极强。 抗环境影响 标准 GUIDED WAVE 轴向工艺流程样品池由 316L 不锈钢制成。也可根据具体应用要求采用其他材料,如哈氏合金 C-276。弹性密封件可防止泄漏并保护轴向流动池的重要内部光学元件。工艺和加工环境决定了最适合应用的实际 ...

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气体循环式蓄水池
气体循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 通常需要较长的路径长度。较长的电池虽然非常有效,但设计起来也比较困难。例如,用于气体测量的透射探头必须在更远的距离上对准,而且必须便于维修而不会破坏样品池的光学焦点。此外,许多气体流被认为是危险的,因此密封装置必须可靠耐用。我们的 GUIDED WAVE™ 气体工艺流程样品池符合或优于化工厂、炼油厂、食品和食品添加剂加工厂、半导体或电子元件制造车间以及制药厂的大多数使用标准。 有多种合金可供选择,并可与多种类型的弹性 ...

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工艺流程循环式蓄水池
工艺流程循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 专为涉及极度危险材料的应用而设计。当工艺涉及氢氟酸、光气、异氰酸酯等剧毒或危险材料时,安全至关重要。不能容忍不受控制或未被发现的泄漏。我们的 GUIDED WAVE 高安全流量单元 (HSFC) 在设计时就考虑到了泄漏预防和早期检测。HSFC 内置 300 级法兰,采用焊接结构,使用双 O 形环密封蓝宝石窗口。哭泣或 "嗒嗒嗒 "端口连接到 O 形环之间的空间,当与传感器连接时,可显示需要更换的 O 形环。GUIDED WAVE ...

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工艺流程循环式蓄水池
工艺流程循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 我们的 GUIDED WAVE™ 特氟龙工艺流程样品池专为腐蚀性极强或不耐受金属污染的样品流而开发。样品池的所有润湿部件都不是金属制造的。只有光滑的特氟龙和蓝宝石表面与工艺流接触。除此之外,聚四氟乙烯工艺流程样品池采用的光学元件与我们广受欢迎的多用途金属样品池相同。在样品池外部结构中使用了耐腐蚀不锈钢,以保持刚性、稳定的光路长度。因此,它具有同样高的光学效率。此外,它还保证不会泄漏!GUIDED ...

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轴向循环式蓄水池
轴向循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 我们的 GUIDED WAVE™ Teflon® 轴向工艺流程样品池专为腐蚀性极强或不能容忍金属污染的样品流而开发,在这些样品流中,即使是痕量金属杂质也会导致严重的工艺问题。这种长路径非金属流动池的路径长度为 25 至 100 毫米,可以应对这些挑战。GUIDED WAVE 特氟隆轴向工艺流程样品池专为高腐蚀性工艺和/或痕量金属杂质敏感性而设计。 ...

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测量浊度循环式蓄水池
测量浊度循环式蓄水池
GUIDED WAVE™

... 我们的 GUIDED WAVE™ 浊度工艺流程测量池是专为不适合直接插入探头的在线测量而开发的。浊度测量可检测工艺中的固体突破情况,同时测量透射率,光路长度为 20 毫米为宜,例如在监测 Saybolt 颜色时。UV-VIS 和 NIR 过程光谱的主要优势之一是利用本质安全型光纤电缆远程定位分析仪与过程的相对位置。 虽然直接插入式探头消除了样品回路和样品系统及其相关问题,但有时出于安全、服务和/或样品调节的原因,有必要安装样品回路。多用途流动池 ...

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