Keller ITS°C温度计

温度: 450 °C - 1,800 °C
频谱响应: 0.82 µm - 0.93 µm

... CellaWafer PA 38 是一款数字测温仪，用于测量 450 至 1,800 °C 的硅片温度。由于其测量波长非常短且频带窄，该测温仪特别适用于硅片和金属（钨、钼等）的测量。此外，它对测量物体发射率的变化不敏感。 特点 测量范围 450 至 1800 °C 可对焦更换镜头，精确调整测量距离 宽带防反...密透镜 短波和窄带光谱范围 特别适用于金属和硅片的精确测量 LED ...

温度: 0 °C - 1,000 °C
频谱响应: 8 µm - 14 µm

... CellaTemp® PR 11是一款智能红外测温仪，可在0-1000°C的温度范围内，从安全距离内进行快速、非接触和无磨损的温度测量。 ...

温度: 250 °C - 1,600 °C

... CellaTemp® PR 21是一款智能红外测温仪，可在250至1600摄氏度的温度范围内，从安全距离内快速、非接触、无磨损地测量温度。 ...

温度: 0 °C - 1,000 °C
精确度: 0.75 %
频谱响应: 8 µm - 14 µm

... CellaTemp® PKL 11 配有集成的 LED 聚光灯。 对于直径为 1.2 mm 的小测量物体而言，聚光灯尤其不可或缺，因为它有助于对齐红外温度计以查看热区并调整正确的焦距。 LED 聚光灯连续照亮，由于其永久控制功能，它提供了高度的操作安全性。 ...

温度: 250 °C - 1,600 °C
精确度: 0.3 %
频谱响应: 1 µm - 1.7 µm

温度: 500 °C - 2,500 °C
精确度: 0.2 %
频谱响应: 0.8 µm - 1.1 µm

温度: 650 °C - 1,600 °C
精确度: 1 %
频谱响应: 1 µm - 1.1 µm

... 双色红外温度计 CellaTemp® PKL 68 采用双光二极管（三明治设计）同时在两个波长上捕捉物体的红外辐射。 然后由这两个信号的比率来定义温度。 ...

温度: 750 °C - 3,000 °C

... CellaCrystal PX 44 是为硅和碳化硅晶体生产过程中的光学温度测量而开发的。其校准特别适合晶体生长过程。由于采用了混合信号评估技术，整个测量范围内的分辨率始终保持在小于 0.1 K 的高水平，并且采用了均匀光传感器技术，因此具有极高的长期稳定性，从而满足了对测量精度的高要求。 特点 测量范围 750 至 3,000 °C PX 44 AF 4：硅晶体生产专用校准装置 PX 44 AF ...

温度: 900 °C - 3,200 °C

文章描述 CellaCrystal PA 45 專為石墨、石墨烯和晶體生產中的光學溫度測量而開發。基於商測量法的高溫計的特點是測量範圍非常大，在整個測量範圍內始終保持 < 0.1 K 的高分辨率。憑藉極高的長期穩定性，該設備滿足了生產過程所需的高精度測量要求。借助鏡頭瞄準器或攝像機，高溫計可以精確對準測量點。 专题报道: 测量范围900至3200 °C，PA 45 AF 1：特别适用于石墨、石墨烯和晶体的生产，混合信号评估，具有较高的计量分辨率，由于自热最小，具有较高的长期稳定性，可调焦的光学器件可精确调整测量距离 ...

温度: 500 °C - 1,400 °C

... CellaCrystal PX 64用于CVD（化学气相沉积）涂层工艺的温度测量。由于其特殊的波长，该测温仪也可用于等离子体辅助蒸镀。 ...