Keller ITS半导体温度计

温度: 450 °C - 1,800 °C
频谱响应: 0.82 µm - 0.93 µm

... CellaWafer PA 38 是一款数字测温仪，用于测量 450 至 1,800 °C 的硅片温度。由于其测量波长非常短且频带窄，该测温仪特别适用于硅片和金属（钨、钼等）的测量。此外，它对测量物体发射率的变化不敏感。 特点 测量范围 450 至 1800 °C 可对焦更换镜头，精确调整测量距离 宽带防反...密透镜 短波和窄带光谱范围 特别适用于金属和硅片的精确测量 LED 显示屏可在远距离读取 用于诊断功能的测试电流输出 标准功能：模拟输出和 ...

温度: 600 °C - 3,000 °C

... 135 是一款用于测量 600 至 3000 °C 温度的数字高温计，短波长窄带传感器在光谱区域工作，在这种区域中，视线路既不阻碍灰尘或蒸汽，也不会波动的发射率也不会干扰测量结果。 CellaPort PT 135 特别适用于检测金属（钨、钼等）和硅晶片的温度。 产品 特点： -范围：600 至 3000 °C -可聚焦、可互换的光学元件允许 精确的距离调节-带宽带抗反射涂层的精密镜头 -选择性短波长窄带光谱响应 -优化用于检测金属和硅的表面温度晶圆 -LED ...

温度: 600 °C - 3,500 °C

... CellaTemp® PA 35 是一款数字式测温仪，用于测量 600 到 3500 °C 之间的温度，短波长窄带传感器在一个光谱区域工作，这种光谱区域既不会阻碍灰尘或蒸汽，也不会影响测量结果。CellaTemp® PA 35 特别适用于检测金属（钨、钼等）和硅晶圆的温度。CellaTemp® PA 35 采用集成 LED 显示屏，可轻松从远处查看温度读数。使用 ...

温度: 750 °C - 3,000 °C

... CellaCrystal PX 44 是为硅和碳化硅晶体生产过程中的光学温度测量而开发的。其校准特别适合晶体生长过程。由于采用了混合信号评估技术，整个测量范围内的分辨率始终保持在小于 0.1 K 的高水平，并且采用了均匀光传感器技术，因此具有极高的长期稳定性，从而满足了对测量精度的高要求。 特点 测量范围 750 至 3,000 °C PX 44 AF 4：硅晶体生产专用校准装置 PX 44 AF 4：用于碳化硅生产的特殊校准 混合信号评估，计量分辨率高 自热最小，长期稳定性高 可对焦镜头，精确调整测量距离 ...

温度: 900 °C - 3,200 °C

文章描述 CellaCrystal PA 45 專為石墨、石墨烯和晶體生產中的光學溫度測量而開發。基於商測量法的高溫計的特點是測量範圍非常大，在整個測量範圍內始終保持 < 0.1 K 的高分辨率。憑藉極高的長期穩定性，該設備滿足了生產過程所需的高精度測量要求。借助鏡頭瞄準器或攝像機，高溫計可以精確對準測量點。 专题报道: 测量范围900至3200 °C，PA 45 AF 1：特别适用于石墨、石墨烯和晶体的生产，混合信号评估，具有较高的计量分辨率，由于自热最小，具有较高的长期稳定性，可调焦的光学器件可精确调整测量距离 ...

温度: 900 °C - 3,200 °C

CellaCrystal PA 45 專為石墨、石墨烯和晶體生產中的光學溫度測量而開發。基於商測量法的高溫計的特點是測量範圍非常大，在整個測量範圍內始終保持 < 0.1 K 的高分辨率。憑藉極高的長期穩定性，該設備滿足了生產過程所需的高精度測量要求。借助鏡頭瞄準器或攝像機，高溫計可以精確對準測量點。 专题报道: * 测量范围900至3200 °C，PA 45 AF 1：特别适用于石墨、石墨烯和晶体的生产，混合信号评估，具有较高的计量分辨率，由于自热最小，具有较高的长期稳定性，可调焦的光学器件可精确调整测量距离 ...